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3.2.9.2高性能靶材制造
3985* 电子专用材料制造
高纯钴靶 3985029；
镍铂合金靶 3985030；
铜和铜合金靶 3985031；
钛和钛合金靶 3985032；
铝和铝合金靶 3985033；
铬靶 3985034；
镉铝靶 3985035；
钼靶 3985036；
钨和钨合金靶 3985037；
钽靶及环件 3985038；
碲锌镉靶（用于光伏电池镀膜） 3985039；
金靶 3985040；
银靶 3985041；
铂靶 3985042；
钯靶 3985043；
10B富集的硼化锆靶材（相对密度95%，应用于核工业） 3985044；
氧化铌溅射靶材（溅射镀膜材料，用于等离子显示器、触摸屏等） 3985045；
其他溅射靶材 3985046；
平板显示用ITO靶材 3985169；
半导体用大尺寸钽靶材 3985170；
SnO2靶材 3985183；
TiO2靶材 3985184；
AZO靶材 3985185；
IZO靶材 3985186；
IWO靶材 3985187；
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